鍍膜儀具有一路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。

用途：單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

產(chǎn)品名稱	單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）
產(chǎn)品型號	TN-MSP300S-RF
特點	自主研發(fā)、高性價比 標準2英寸磁控濺射頭 射頻電源，非金屬膜、光學膜 高精度質(zhì)量流量計 渦輪分子泵組，極限真空可達10E-5Pa 一體機電腦操作
參數(shù)	1、樣品臺：尺寸φ150mm；  加熱溫度 maxtemp：500℃；控溫精度：±1℃；轉(zhuǎn)速：1-20rpm可調(diào) 2、磁控濺射頭：2” ×1 （1”,2”,3”可選）10L/min流速的循環(huán)水冷  3、真空腔體：尺寸：φ300mm × 340mm 材料：不銹鋼、上頂開式， 觀察窗口：φ100mm 4、質(zhì)量流量計：1路；量程200SCCM；Ar（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） 5、真空系統(tǒng)：分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S 6、真空測量：復合真空計 7、濺射電源：射頻電源 ×1；max輸出功率 500W-1000W 可選 8、膜厚儀：石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? 9、操作方式：一體機電腦操作
規(guī)格	尺寸：1090mm × 900mm × 1250mm；重量：350kg ；電壓：AC220V,50Hz；功率：6KW

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