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TN-MSP300S-2RF 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
特點(diǎn)：
1. 磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶(hù)可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購(gòu)；2. 兩個(gè)射頻電源，300w-1000W射頻電源可用于非金屬薄膜的制備，兩個(gè)靶可以滿(mǎn)足多層或者多次鍍膜的需要。
3. 高精度質(zhì)量流量計(jì)，客戶(hù)若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路，以滿(mǎn)足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；
4. 渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)10E-5Pa，同時(shí)另有其他類(lèi)型的分子泵可供選購(gòu)。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制，可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開(kāi)腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。
5.一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制，在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
技術(shù)參數(shù)：
型號(hào)
TN-MSP300S-2RF
供電電壓
AC220V，50Hz
整機(jī)功率
6KW
極限真空度
5*10-4Pa
樣品臺(tái)
尺寸：φ150mm
加熱溫度：500℃ max.；控溫精度：+-1℃
轉(zhuǎn)速：1-20rpm 可調(diào)節(jié)
磁控濺射頭
尺寸：2英寸，數(shù)量：2；冷卻方式：水冷 所需流速10L/min
水冷機(jī)：10L/min 循環(huán)水冷
真空腔體
尺寸：φ300mm*340mm；材料：不銹鋼
觀察窗：φ100mm；開(kāi)啟方式：上頂開(kāi)啟，便于更換靶材
氣體流量控制
1路，200sccm ，Ar
真空泵
分子泵組，抽速600L/S
濺射電源
兩臺(tái) 射頻電源 500-1000W 可選
膜厚儀
石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ?
操作方式
一體機(jī)電腦操作
整機(jī)尺寸
1090mm X 900mm X 1250mm
整機(jī)重量
350kg
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