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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 產(chǎn)品廠商：其它品牌
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡(jiǎn)單介紹：
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜，該帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀添加偏壓電場(chǎng)，增強(qiáng)離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力
詳情介紹：

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。除此之外本設(shè)備還配有偏壓電源，能夠在靶材和樣品臺(tái)間添加偏壓電場(chǎng)，增強(qiáng)離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。



名稱

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

特點(diǎn)

  • 鍍膜速率高，樣品溫升低，典型的高速低溫濺射
  • 偏壓電源增強(qiáng)離子的能量，提高成膜質(zhì)量和薄膜的附著力
  • 觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手

技術(shù)參數(shù)

  • 供電電壓： AC220V，50Hz
  • 整機(jī)功率 ：3KW
  • 極限真空度 ：10-6torr
  • 載樣臺(tái)參數(shù)： 尺寸 φ140mm； 加熱溫度 *高500℃； 控溫精度 ±1℃； 轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào)
  • 磁控濺射頭：2個(gè)2”磁控濺射頭； 水冷（水冷機(jī)規(guī)格 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)）
  • 真空腔體 ：尺寸 φ300mm X 300mm H，不銹鋼
  • 觀察窗口 ：φ100mm
  •  開啟方式： 上頂開式，便于更換靶材
  • 氣體流量控制器： 2路分別通Ar，N2； 量程均為0-100sccm
  • 真空泵 ：配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
  • 膜厚儀： 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ?
  • 濺射電源 ：直流電源一臺(tái)，1000W，適用于制備金屬膜射頻電源一臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜
  • 操作方式 面板按鈕操作

規(guī)格

 尺寸：1400mm X 750mm X 1300mm；重量：300kg